[CHAKAN] Centella Cica Real Pack Wash Off Mud Cream Mask 100ml

[Opis] -Składniki Centella Asiatica pomagają w pielęgnacji skóry problematycznej. -Zawiera ekstrakt z Eoseongcho, który usuwa pozostałe ślady po trądziku. -Skutecznie redukuje wydzielanie sebum na twarzy dzięki opatentowanemu ekstraktowi ze składników. -Zawarty w produkcie ekstrakt z leszczyny pospolitej pomaga oczyścić rozszerzone pory spowodowane wydzielaniem sebum. -Składniki kwasu hialuronowego silnie nawilżają skórę. -Produkt powstał na bazie naturalnych składników, które nie podrażniają skóry, dlatego możesz go śmiało stosować nawet na wrażliwą skórę.

[Jak używać] 1. Delikatnie rozprowadź na całej twarzy. 2. Po 10–15 minutach delikatnie wmasuj letnią wodą. 3. Umyj go miękką gąbką, a następnie wykonaj pielęgnację skóry.

[Składniki] Woda rafinowana, kaolin, gliceryna, glikol butylenowy, bentonit, 1,2-heksanodiol, polisolbat 60, kaprynowy/kaprynowy trigliceryd, kwas stearynowy, ekstrakt z trawy butelkowej (1000 ppm), ekstrakt z kory białej wierzby, ekstrakt z liści oregano, ekstrakt z liści cyprysu, ekstrakt z fermentacji lactobacillus/fasoli, ekstrakt z brokułów, ekstrakt z purpurowego nosa, ekstrakt z kapusty, ekstrakt z rzepaku, ekstrakt z nasion jamsu, ekstrakt z kopru wirginijskiego, ekstrakt z liści drzewa persymony, ekstrakt z liści aloesu, ekstrakt z liści herbaty, ekstrakt z liści drzewa herbacianego, liście drzewa herbacianego, woda z gorących źródeł, olejek z kwiatów dzikiej róży, proszek z koniczyny/łodygi, trelloza, betaina, kwas salicylowy, solwitan, akrylobutan sodu, glukozyd kaprylowy, octan toperylu, dioksyd tytanu, oles-10, silan trikarylcylowy, cymeton, metakrylan metylu, ksymetan, dietynian sodu, aromat